Die Siliciumtechnologie ist der zentrale Schlüssel für die Mikro- und Nanoelektronik, die als Fundament für das Informations- und Kommunikationszeitalter aus unserem modernen Leben und Arbeiten nicht mehr wegzudenken ist. Auf der Jahrestagung des Fraunhofer-Instituts für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB) am 16. Oktober 2008 in Erlangen diskutieren Experten aus Industrie und Forschung die neuesten Entwicklungen in der Material-, Bauelemente- und Systemtechnik sowie zukunftsträchtige alternative Elektroniktechnologien.
Neben drängenden Fragen der Höchstintegration für immens leistungsfähige Logik- und Speicherchips, z.B. die Herstellung so genannter Gate-Stapel, die ein zentrales Element moderner CMOS-Transistoren sind, werden auch auf Nanopartikeln basierende kostengünstige Alternativen zur klassischen Siliciumtechnologie behandelt.
Neben drängenden Fragen der Höchstintegration für immens leistungsfähige Logik- und Speicherchips, z.B. die Herstellung so genannter Gate-Stapel, die ein zentrales Element moderner CMOS-Transistoren sind, werden auch auf Nanopartikeln basierende kostengünstige Alternativen zur klassischen Siliciumtechnologie behandelt.
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