Zum neunten Mal folgten Lithographie-Experten aus aller Welt der Einladung des Fraunhofer IISB zum "Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop". Das Fachtreffen mit dem Schwerpunkt Modellierung adressiert ein internatio-nales Publikum aus Industrie und Forschung und legt Wert auf einen deutlichen Praxisbezug der behandelten Fragestellungen.
Die Photolithographie wird vor allem in der Halbleiterindustrie bei der Produktion von Mikrochips eingesetzt. Sie ist dort das industrielle Standard-Verfahren zur Herstellung kleiner und kleinster Strukturen im Mikro- und Nanometerbereich und daher auch wirtschaftlich von großer Bedeutung. Durch die stetige Miniaturisierung in der Mikroelektronik und die damit verbundene Verkleinerung der Strukturgrößen, z.B. für Transistoren, ergeben sich für
Die Photolithographie wird vor allem in der Halbleiterindustrie bei der Produktion von Mikrochips eingesetzt. Sie ist dort das industrielle Standard-Verfahren zur Herstellung kleiner und kleinster Strukturen im Mikro- und Nanometerbereich und daher auch wirtschaftlich von großer Bedeutung. Durch die stetige Miniaturisierung in der Mikroelektronik und die damit verbundene Verkleinerung der Strukturgrößen, z.B. für Transistoren, ergeben sich für
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