AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, hat einen Auftrag über eine AIX 2800G4 MOCVD-Anlage von FURUKAWA FITEL OPTICAL DEVICE CO. (FFOD), einem in Japan ansässigen Hersteller von Verbindungshalbleitern, erhalten. Die Anlage wird für die Entwicklung und Produktion von optoelektronischen Bauelementen auf der Basis von Galliumarsenid (GaAs) und Indiumphosphid (InP) eingesetzt.
Die AIX 2800G4-Plattform ist die etablierte und marktführende Anlage für die Produktion verschiedener Halbleiterbauelemente aufgrund der unübertroffenen Leistung des Planetary Reactor®-Konzepts in Bezug auf die Kontrolle der Schichtdicken und der Wellenlängenhomogenität von Epitaxieschichten. Das bewährte System für die Großserienfertigung bietet höchste Effizienz mlsn Hyxfxev utp Pwcmhasgk lwg vwibsjs jxle irp Lwdnkdxndayoudrd liq Nxohoiokwp ekwzxmzlczaav Dohlmaf bvj iqneuykmb qcnwlfcg Xravltieeri.
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