Der NL200 des Herstellers Ekspla ist ein bewährtes Nanosekunden-Lasersystem für den wissenschaftlichen und industriellen Einsatz. Das System bietet eine Leistung von bis zu 4 mJ bei 1064 nm bei einer einstellbaren Wiederholrate von bis zu 1 kHz (alternativ 0,9 mJ bei bis zu 2,5 kHz verfügbar) und gleichzeitig hochwertige Strahlungseigenschaften wie z.B. einem M2 < 1,3, einer Pulsenergiestabilität von < 0,5% RMS und einem Leistungsdrift von +/-2% bei 1064 nm. Optional kann der Laser mit Harmonischen ausgestattet werden (0,6 mJ, bzw. 600 mW bei 266 nm, auf Wunsch auch 5. Harmonische). Zudem ist der Laser rein luftgekühlt und in einem robusten, hermetisch verschlossenen Gehäuse verbaut. Dadurch ist das leistungsstarke Lasersystem zuverlässig und wartungsarm.
Die Anwendungen des Lasersystems reichen von der Materialbearbeitung (z.B. Oberflächenbearbeitung oder Mikromaterialbearbeitung) über Analyseverfahren (z.B. LIBS oder MALDI) bis hin zum Einsatz als Pumpquelle für andere Lasersysteme.
Die Anwendungen des Lasersystems reichen von der Materialbearbeitung (z.B. Oberflächenbearbeitung oder Mikromaterialbearbeitung) über Analyseverfahren (z.B. LIBS oder MALDI) bis hin zum Einsatz als Pumpquelle für andere Lasersysteme.
