Die GSEC (German Semiconductor Equipment Company) GmbH wurde 2021 in Radolfzell gegründet und ist ein führendes Unternehmen in der Reinigungstechnologie für die Halbleiterindustrie. Ihr Ziel ist es, innovative Lösungen zu entwickeln, die den steigenden Anforderungen an Reinigungsanlagen gerecht werden und die aktuellen und zukünftigen Bedürfnisse ihrer Kunden erfüllen. Durch langjährige Partnerschaften mit globalen Branchenführern, wie z.B. TCMC oder Intel, kann GSEC frühzeitig auf neue Anforderungen reagieren und ihre Systeme kontinuierlich verbessern. Auf ihrer Roadmap stehen Verbesserungen in der Behälterreinigung, die Integration von Messtechnik zur Überwachung partikuläre sowie chemisch ausgasende Kontaminationen und die Entwicklung von Reinigungssystemen für die EUV-Technologie im Fokus.
In der Chipherstellung, insbesondere im Bereich der Herstellung von Chips mit hochkomplexen Leiterbahnen im Nanometerbereich, wird eine lückenlose Reinheit der gesamten Wertschöpfungskette immer wichtiger. Besonders herausfordernd ist die Reinigung der FOUP-Behälter, die für kommende Chipgenerationen noch anspruchsvollere Reinheitsanforderungen erfüllen müssen. Aktuelle Reinigungssysteme stoßen hierbei an ihre Grenzen und erfordern einen hohen Aufwand, um den Anforderungen gerecht zu werden. Die GSEC GmbH hat daher ein innovatives Reinigungssystem entwickelt, das auf Patenten basiert und die zukünftigen Anforderungen nicht nur erfüllen, sondern auch übertreffen soll.
Besonders innovativ ist der patentierte Ansatz zur separierten Reinigung der Behälteroberflächen. Hierdurch kann eine gezieltes Reinigungsverfahren aus deionisiertem Wasser und reiner Druckluft angewendet werden. Das Resultat ist neben einem geringeren Ressourceneinsatz auf einer kleinere Anlagenfläche, ein höherer Durchsatz bei gleichzeitig hochwertigeren Reinheitsergebnissen. Das mehrfach patentierte System überbietet somit langfristig den aktuellen Stand des anspruchsvollen Wettbewerbs der Halbleiterindustrie.
Gefördert wurde dieses Vorhaben mithilfe der Spitzmüller AG durch die Forschungszulage.
In der Chipherstellung, insbesondere im Bereich der Herstellung von Chips mit hochkomplexen Leiterbahnen im Nanometerbereich, wird eine lückenlose Reinheit der gesamten Wertschöpfungskette immer wichtiger. Besonders herausfordernd ist die Reinigung der FOUP-Behälter, die für kommende Chipgenerationen noch anspruchsvollere Reinheitsanforderungen erfüllen müssen. Aktuelle Reinigungssysteme stoßen hierbei an ihre Grenzen und erfordern einen hohen Aufwand, um den Anforderungen gerecht zu werden. Die GSEC GmbH hat daher ein innovatives Reinigungssystem entwickelt, das auf Patenten basiert und die zukünftigen Anforderungen nicht nur erfüllen, sondern auch übertreffen soll.
Besonders innovativ ist der patentierte Ansatz zur separierten Reinigung der Behälteroberflächen. Hierdurch kann eine gezieltes Reinigungsverfahren aus deionisiertem Wasser und reiner Druckluft angewendet werden. Das Resultat ist neben einem geringeren Ressourceneinsatz auf einer kleinere Anlagenfläche, ein höherer Durchsatz bei gleichzeitig hochwertigeren Reinheitsergebnissen. Das mehrfach patentierte System überbietet somit langfristig den aktuellen Stand des anspruchsvollen Wettbewerbs der Halbleiterindustrie.
Gefördert wurde dieses Vorhaben mithilfe der Spitzmüller AG durch die Forschungszulage.
