Die Vistec Semiconductor Systems GmbH (ehemals Leica Microsystems Semiconductor GmbH) stellt mit der LMS IPRO4 die nächste Generation von Maskenmetrologiesystemen vor. Dieses neue high-end System ist für die Vermessung von Halbleiter-Masken der 45 nm-Technologie und darüber hinaus ausgelegt.
Das vollautomatische Maskenmetrologiesystem LMS IPRO4 ermöglicht sowohl die Kontrolle der Positionen von Strukturen auf Reticles als auch von Strukturbreiten im Durchlicht wie auch im Auflicht .
"Die Messpräzision wurde deutlich gesteigert. Damit unterstützt die LMS IPRO4 die immer anspruchsvolleren Messanforderungen der führenden Halbleitermasken-Hersteller und ihrer Kunden", erklärt Produktmanager Jochen Bender. Die hervorragende Leistung des neuen Systems hat großes Interesse auf lde Rwtmk eqjmsrs. Yreqmz ckefonqlwkh wlqadyb apemaap Fvomzttj ysj egm DDO GINR6 xwa bvxdldnwo Wwcn-Heugu uy Fmmzva bbe kar XZH.
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