Die Vistec Semiconductor Systems GmbH (ehemals Leica Microsystems Semiconductor GmbH) stellt mit der LMS IPRO4 die nächste Generation von Maskenmetrologiesystemen vor. Dieses neue high-end System ist für die Vermessung von Halbleiter-Masken der 45 nm-Technologie und darüber hinaus ausgelegt.
Das vollautomatische Maskenmetrologiesystem LMS IPRO4 ermöglicht sowohl die Kontrolle der Positionen von Strukturen auf Reticles als auch von Strukturbreiten im Durchlicht wie auch im Auflicht .
"Die Messpräzision wurde deutlich gesteigert. Damit unterstützt die LMS IPRO4 die immer anspruchsvolleren Messanforderungen der führenden Halbleitermasken-Hersteller und ihrer Kunden", erklärt Produktmanager Jochen Bender. Die hervorragende Leistung des neuen Systems hat großes Interesse auf
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