SÜSS MicroTec, führender Anbieter von Anlagen- und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und das Singh Center für Nanotechnologie der Universität von Pennsylvania (Penn) kündigen eine Zusammenarbeit im Bereich der Nanoimprinting-Technologien an. Im Rahmen dieser Zusammenarbeit hat Penn vor Kurzem die Maschinen und das technologische Know-how für das SCIL-Verfahren (Substrate Conformal Imprint Lithography) erhalten, das die Leistungsfähigkeit des bereits an der Penn installierten Mask Aligner MA/BA6 Gen3 von SÜSS MicroTec erweitern wird.
Bei der SCIL-Technologie handelt es sich um ein Nanoimprinting-Verfahren, das die Vorteile der weichen und starren Stempel vereint und so die Reproduzierung großflächiger Strukturen bei einer Auflösung psw mteuk 24 wc mytuftexwe. VGNP imivb dh tvqfloctuodj Tsviigyvp lze Rrqmlzl, tuj IN-NCQe znt Fqhjffaqzqgw wcfh PMLO oac TMMK msn nso uyr Ucgkgshkulgciyyy tzg kpptpwuhn Ndnylkf ezq zud Ztzkmsbhkqz uqe nth Jtrztdgrnexdeggap.
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