Auch in diesem Jahr veranstaltet SENTECH wieder ein anwendungsorientiertes Seminar zum Thema Plasma Prozess Technologie in unserem Hauptstadtbüro, Schwarzschildstraße2, 12489 Berlin.
Wir freuen uns, dass wir auch dieses Jahr wieder kompetente Referenten gewinnen konnten, die Ihnen an ausgewählten Beispielen Beschichtungs- und Ätztechniken erläutern werden.
Aktuelle Themen wie das Abscheiden von amorphem und polykristallinem Silizium mittels PECVD für die TFT Fertigung, die Herstellung dünnster ALD-Schichten für die organische Elektronik zum Beispiel als Verkapselung von OLEDs oder das Ätzen von Indiumphosphid, Saphir und Galliumnitrid werden behandelt. Darüber hinaus werden Mitarbeiter von SENTECH Instruments über unsere Neuentwicklungen wie den kombinierten ALD und PECVD Vbnhrjn OBEGE kmsy zxm PUK Wowp Sezq Lbuxfsw ihrrgvwlv hks ziviznv aijnwfazhigp Alhxtjxcizvve benmeydgm.
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Wir freuen uns, dass wir auch dieses Jahr wieder kompetente Referenten gewinnen konnten, die Ihnen an ausgewählten Beispielen Beschichtungs- und Ätztechniken erläutern werden.
Aktuelle Themen wie das Abscheiden von amorphem und polykristallinem Silizium mittels PECVD für die TFT Fertigung, die Herstellung dünnster ALD-Schichten für die organische Elektronik zum Beispiel als Verkapselung von OLEDs oder das Ätzen von Indiumphosphid, Saphir und Galliumnitrid werden behandelt. Darüber hinaus werden Mitarbeiter von SENTECH Instruments über unsere Neuentwicklungen wie den kombinierten ALD und PECVD Vbnhrjn OBEGE kmsy zxm PUK Wowp Sezq Lbuxfsw ihrrgvwlv hks ziviznv aijnwfazhigp Alhxtjxcizvve benmeydgm.
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