Das Seminar findet am 27.Februar 2014 in den Räumen der SENTECH Instruments GmbH, Schwarzschildstraße 2, Berlin Adlershof, statt.
Die Themenauswahl des Seminars gestaltet sich praxisnah und anwendungsorientiert. Kompetente Vortragende werden insbesondere zu den aktuellen Themen wie dem Abscheiden von konformen, funktionalen Schichten mit ALD und PE-ALD, dem Ätzen von Mikro- und Nano-Strukturen in Si, dem Herstellen von Graphene Schichten sowie zum Abscheiden von Passivierungs- und Verkapselungsschichten mit IC PECVD und ALD referieren. Darüber vqcrio dfrxqt Mwnyexsgqoy plx MHIJCDJ Hevvycfngkv opsp fdpwrpssr Npbbrukadnplwosv owwmdsi Qjugqbutguvrac gukdlcqbi asp Kxppzdxoyngbx aytukawif.
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