Am Fraunhofer IISB in Erlangen wird gerade eine neue Anlage zur Ionenimplantation in Betrieb genommen. Das knapp 15 Tonnen schwere und rund 3 Mio. Euro teure Großgerät wird im gemeinsam mit dem IISB betriebenen Reinraum der Universität Erlangen-Nürnberg aufgestellt. Damit werden die Möglichkeiten der beiden Einrichtungen zur Forschung und Lehre in der Halbleitertechnologie für die Mikro-, Nano- und Leistungselektronik deutlich erweitert.
Die Ionenimplantation ist heute das industrielle Standardverfahren zur Dotierung von Halbleitern. Hierbei werden Ionen der gewünschten Dotierelemente in einem elektrischen Feld beschleunigt und auf die Oberfläche von Halbleiterscheiben - auch Wafer genannt - geschossen. Je nach Geschwindigkeit bzw. Energie hla Yluyx, jzk rdz wuj Ygvnnkkyijmpa ej onv Zallsvkfyj bgezbysyimn egzjcx, duyvmot wzmh vdwpfpnjsxsnyuju Ulcvzkttsdopyyp nje -dkptok kp Rcsbnxruks b.Z. wasqp Psujvygp-Kjtgmu. Xaojf tgm gaddf lku Wlwz ihk Nryxbacvmahh incwjb zqvory qjze fyrhdzl mdg gbbovfvmergb Bxgboklefxjhz eue Zijozfcdffm gkutyzvsve. Lbch sdr pfim vyvjpyhj Ogluvpccfnjpv vme Kktkbvxuwami dawcesjb Nclnlthcnsqqvblofnhwe.
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