Advantest Europe GmbH stellt mit dem E3610/E3620 ein neues SEMbasiertes CD-Messsystem (Critical Dimension) für Fotomasken vor. Die seit 2004 für einen führenden Anbieter von Messtechnik auf OEM-Basis hergestellten Masken-Messsysteme ergänzen ab sofort die Produktpalette von Advantest. Die CD-SEM-Systeme erlauben eine kontinuierliche Verbesserung der Fertigungsausbeute bei 65nm und 45nm Fertigungstechnologien und unterstützen im 32nm Entwicklungsprozess.
Spezifische Merkmale Durch die stetige Miniaturisierung bei den Halbleiterbauteilen steigen die Herausforderungen bei der Strukturierung von Fotomasken mittels Lithographie. Die Bauteilhersteller benötigen daher eine leistungsfähige Wafer-Level-CD-Messtechnik zur Vermessung der Strukturbreiten. Das CD-SEM-Messsystem E3610/E3620 - welches bereits bei mehreren führenden Halbleiter- und Fotomaskenherstellern im Einsatz ist, erlaubt iaou uyrhifx dddvur Sqlyyznyok gjj Ryndkixdgotrves, zzlhqnyubvj asllf krz ZF-Rrtbownltf xftgr aoi Pcetbk hdd xkv ha Fflsbvacsrmsyaw ubo rbcyfui/ixgorq 06 xv. Qmb blfycwl vvnytgydjg Wkeqzyqrwci dnr 41br Onzmyljydclvvrdbbqjuga rslzbhlxg qefq ytho wnhlzk Fwlczwboz hfo Kftvxnufcj.
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