Vom 24. bis 27. Mai 2017 findet mit der China Glass 2017 in Peking einer der wichtigsten internationalen Branchentreffs der Glasindustrie statt. VON ARDENNE wird als einer der weltweit führenden Anbieter von Beschichtungsanlagen für Architekturglas wieder auf der Messe in Halle E2 am Stand 26 vertreten sein.
Neben der Präsentation seiner Anlagen, steht einer Reihe neuester Entwicklungen im Mittelpunkt der Messeaktivitäten des deutschen High-Tech-Unternehmens. All diese Entwicklungen tragen in entscheidendem Maße zur weiteren Steigerung der Produktivität von Glasbeschichtungsanlagen und zur Senkung der Betriebskosten bei.
Zu den vorgestellten Komponenten zählen High Utilization (HU) Planarmagnetrons für bis zu 33% längere Kampagnenzeiten bei stabil hohen Schichthomogenitäten.
Auch bei den rotatable Magnetrons führen konsequente Weiterentwicklungen zu einer signifikant höheren Targetausnutzung von 85% und ermöglichen damit deutliche Produktivitätssteigerungen. Zudem können dickere Targets zum Einsatz kommen, wodurch auch hier längere Produktionskampagnen gefahren werden können.
Eine weitere Entwicklung ermöglicht mit Hilfe von angepassten Sputtergeometrien eine erhöhte Dampfausnutzung bei Sputterprozessen mit Planartargets. Hierfür bietet VON ARDENNE einen entsprechenden Umrüstbausatz an.
Mit einem neuen Audit-Service rundet das Dresdener Unternehmen sein Angebot zur Steigerung der Effizienz und Leistungsfähigkeit von Glasbeschichtungsanlagen ab.
Die präsentierten Entwicklungen kommen in neuen Anlagen zum Einsatz und können als Upgrades in bestehende integriert werden.
Besuchen Sie VON ARDENNE vom 24. bis 27. Mai auf der China Glass 2017!
MESSESTAND
China Glass 2017
China International Exhibition Center, Beijing
Halle E2, Stand 26
Neben der Präsentation seiner Anlagen, steht einer Reihe neuester Entwicklungen im Mittelpunkt der Messeaktivitäten des deutschen High-Tech-Unternehmens. All diese Entwicklungen tragen in entscheidendem Maße zur weiteren Steigerung der Produktivität von Glasbeschichtungsanlagen und zur Senkung der Betriebskosten bei.
Zu den vorgestellten Komponenten zählen High Utilization (HU) Planarmagnetrons für bis zu 33% längere Kampagnenzeiten bei stabil hohen Schichthomogenitäten.
Auch bei den rotatable Magnetrons führen konsequente Weiterentwicklungen zu einer signifikant höheren Targetausnutzung von 85% und ermöglichen damit deutliche Produktivitätssteigerungen. Zudem können dickere Targets zum Einsatz kommen, wodurch auch hier längere Produktionskampagnen gefahren werden können.
Eine weitere Entwicklung ermöglicht mit Hilfe von angepassten Sputtergeometrien eine erhöhte Dampfausnutzung bei Sputterprozessen mit Planartargets. Hierfür bietet VON ARDENNE einen entsprechenden Umrüstbausatz an.
Mit einem neuen Audit-Service rundet das Dresdener Unternehmen sein Angebot zur Steigerung der Effizienz und Leistungsfähigkeit von Glasbeschichtungsanlagen ab.
Die präsentierten Entwicklungen kommen in neuen Anlagen zum Einsatz und können als Upgrades in bestehende integriert werden.
Besuchen Sie VON ARDENNE vom 24. bis 27. Mai auf der China Glass 2017!
MESSESTAND
China Glass 2017
China International Exhibition Center, Beijing
Halle E2, Stand 26
