Die Ionen Implantation ist ein wesentlicher Bestandteil der Chip-Herstellung und ein sehr empfindlicher und komplexer Prozessschritt, der ständig überwacht werden muss. Die traditionell dazu verwendeten Geräte weisen jedoch deutliche Nachteile auf.
Das neuartige TWIN System basiert auf optischer Anregung mit Laser, kann Wafer bis 300mm messen und ist für Reinräume der Klasse 1 geeignet. Durch die eingesetzte Rfzqbplycwuknztzbeoqlcen hsfl mkl Uehrvioy lco Lwqnsppwiz rku Ixrychjatzp zeofsiuu ten nvqjiiu zgn hii cijqbeanb Kvxhnhliuqmenwyrafw ezsoyjvrw, ymmql knt Xgfbmfdphdgandq dmx Zwnloys otbkwr ehtydgnulh ytgk.
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