Interference Filters for Photolithography

New Products

Interference Filters for Photolithography
(PresseBox) ( Olching, )
Photolithographic filters are used in applications with LSI and LCD steppers in which high-power mercury vapor lamps are used for illumination. The very narrow-band bandpass filters produce an almost monochromatic radiation. This allows the best possible resolution to be achieved in the target.

LASER COMPONENTS' partner Omega Optical has revised its i-line bandpass filters. The filter designs are now available based on dual magnetron reactive sputtering coating. This significantly improves both the intensity of the i-line and its homogeneity in the photolithographic process.

There is one new product from Omega that is particularly interesting for MEMS production: MicroChem, the manufacturer of the SU-8 photo resist, recommends UV radiation below 350 nm to be blocked in order to produce particularly perpendicular structures. With this in mind, the PL-360-LP from the mask aligner series can be particularly recommended!

All filters are available from LASER COMPONENTS.

More Information http://www.lasercomponents.com/...
Für die oben stehenden Pressemitteilungen, das angezeigte Event bzw. das Stellenangebot sowie für das angezeigte Bild- und Tonmaterial ist allein der jeweils angegebene Herausgeber (siehe Firmeninfo bei Klick auf Bild/Meldungstitel oder Firmeninfo rechte Spalte) verantwortlich. Dieser ist in der Regel auch Urheber der Pressetexte sowie der angehängten Bild-, Ton- und Informationsmaterialien.
Die Nutzung von hier veröffentlichten Informationen zur Eigeninformation und redaktionellen Weiterverarbeitung ist in der Regel kostenfrei. Bitte klären Sie vor einer Weiterverwendung urheberrechtliche Fragen mit dem angegebenen Herausgeber. Bei Veröffentlichung senden Sie bitte ein Belegexemplar an service@pressebox.de.