Der neue Reinraum ergänzt die bisherigen Kapazitäten und ist mit neuester Molekularfiltrationstechnologie ausgestattet, um Anwendungen mit anspruchsvollen Reinheitsanforderungen, zum Beispiel mit extrem-ultraviolettem Licht (EUV) und Vakuum, zu unterstützen.
Ein ebenfalls kürzlich erweiterter flexibler Fertigungsbereich bietet Platz für zusätzliche Teststationen und ist mit einem modularen Reinraum der Klasse 7 ausgestattet. Erhöhte Decken und ein Deckenlift ermöglichen den Transport von Produkten und sorgen damit für eine höhere Effizienz in dieser Umgebung, die einen hohen Grad an Reinheit und geringstmögliche Verunreinigungen erfordert. Diese Fertigungs- und Testkapazitäten können für zukünftige Projekte nach Bedarf konfiguriert werden.
Führende Anlagenhersteller weltweit vertrauen auf die Produkte von Jenoptik für die Fertigung von Halbleiterkomponenten, Telekommunikationsausrüstung, Geräten für mobile Endanwendungen und die digitale Projektion sowie Augmented-Reality-Anwendungen als auch die Industrieautomation.
Erst vor wenigen Wochen hatte Jenoptik die Investition in eine neue Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage für einen zweistelligen Millionenbetrag bekanntgegeben. Mit der Anlage am Standort Dresden wird Jenoptik anspruchsvollste Präzisionssensoren der nächsten Generation fertigen, die für die Weiterentwicklung der DUV- und die Etablierung der hochgenauen EUV-Wafer-Belichtung in der Halbleiterfertigung unverzichtbar sind.