Edmund Optics® (EO), führender Anbieter von optischen Komponenten, stellt Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel) vor. Diese präzisionspolierten, mehrlagigen Spiegel bieten maximale Reflexion an der Designwellenlänge und im Design-Einfallwinkel (AOI). Sie wurden zur Strahlumlenkung im EUV und Abtrennung von Oberwellen entwickelt.
Maximale Reflexion bei 13,5 nm
Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht sind mit einem Einfallswinkel von 5° oder 45° erhältlich und besitzen eine nahezu optimale Reflexion bei 13,5 nm – die Wellenlänge mit der höchstmöglichen Reflexion im EUV-Bereich. Die RoHs konformen Spiegel bieten eine Beschichtung, die auf einem superpolierten Monokristallsiliziumsubstrat aufgebracht wird, um eine verbesserte thermische Stabilität zur erreichen. Durch die Oberflächenrauheit unter 3 Å RMS ermöglichen die EUV-Spiegel eine stark reduzierte Streuung des einfallenden Lichtes. Die mehrlagige Metall-/Halbleiter-Beschichtung besteht aus einer mehrlagigen Molybdän/Silizium-Beschichtung mit einer Silizium-Deckschicht. Mit einer Oberflächenebenheit von λ/10 bei 632,8 nm und einer Dicke von 6,35 mm sind die Spiegel für 45° Einfallswinkel ideal zur Umlenkung von s-polarisiertem Licht geeignet, während Spiegel für 5° Einfallswinkel für die Verwendung mit nicht polarisiertem Licht ausgelegt sind.
Ideal für CDI und Werkstoffforschung
Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht werden in neuartigen Anwendungen, wie beispielsweise der Bildverarbeitung mittels kohärenter Beugung (CDI) und Werkstoffforschung eingesetzt. CDI ist ein kontaktloses bildgebendes Verfahren mit einer Auflösung bis zu 10 nm und wird häufig zur Analyse von extrem kleinen Strukturen, die durch Nanofabrikationhergestellt werden genutzt. Die Spiegel eignen sich zudem zur Abtrennung von Oberwellen aus Laserstrahlen mit starker Oberwellenerzeugung (HHG). Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht sind ab Lager verfügbar und sofort lieferbar.
Maximale Reflexion bei 13,5 nm
Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht sind mit einem Einfallswinkel von 5° oder 45° erhältlich und besitzen eine nahezu optimale Reflexion bei 13,5 nm – die Wellenlänge mit der höchstmöglichen Reflexion im EUV-Bereich. Die RoHs konformen Spiegel bieten eine Beschichtung, die auf einem superpolierten Monokristallsiliziumsubstrat aufgebracht wird, um eine verbesserte thermische Stabilität zur erreichen. Durch die Oberflächenrauheit unter 3 Å RMS ermöglichen die EUV-Spiegel eine stark reduzierte Streuung des einfallenden Lichtes. Die mehrlagige Metall-/Halbleiter-Beschichtung besteht aus einer mehrlagigen Molybdän/Silizium-Beschichtung mit einer Silizium-Deckschicht. Mit einer Oberflächenebenheit von λ/10 bei 632,8 nm und einer Dicke von 6,35 mm sind die Spiegel für 45° Einfallswinkel ideal zur Umlenkung von s-polarisiertem Licht geeignet, während Spiegel für 5° Einfallswinkel für die Verwendung mit nicht polarisiertem Licht ausgelegt sind.
Ideal für CDI und Werkstoffforschung
Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht werden in neuartigen Anwendungen, wie beispielsweise der Bildverarbeitung mittels kohärenter Beugung (CDI) und Werkstoffforschung eingesetzt. CDI ist ein kontaktloses bildgebendes Verfahren mit einer Auflösung bis zu 10 nm und wird häufig zur Analyse von extrem kleinen Strukturen, die durch Nanofabrikationhergestellt werden genutzt. Die Spiegel eignen sich zudem zur Abtrennung von Oberwellen aus Laserstrahlen mit starker Oberwellenerzeugung (HHG). Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht sind ab Lager verfügbar und sofort lieferbar.
