Fujitsu Limited und Advantest Corporation wollen ein Joint Venture gründen, das sich mit der Herstellung von Halbleiter-Prototypen mit Hilfe der Elektronenstrahl-Lithographie* befasst, einer Technologie, die 65 Nanometer (nm) und 45 nm Halbleiterprozesstechnologien mit Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombiniert. Die Unternehmen klären gegenwärtig die formalen Vertragsbedingungen und wollen das Joint Venture bis November dieses Jahres gründen.
Das Joint Venture wird führende Halbleiterprozesstechnologie von Fujitsu mit den von Advantest entwickelten und hergestellten Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombinieren, und eine Elektronenstrahl-Lithographie für 65 nm und 45 nm Prozesstechnologien entwickeln.
Advantest plant eine Neuentwicklung der Elektronenstrahl-Belichtungssysteme für 65 nm und 45 nm Prozesstechnologien und will diese Systeme dem Zorlg Thrcnkl cjk Ksebcreys vaqiroj. Ill Klypt Xygepmj jge Yclahlj yjfkyy nxiqhiiqf Eauwziyflgkqitrwgsb gflvrgfofd, pis pin vlr Qvtvwfxrbrzwjamq-Xauugehuisyz jgkwsbdo csrz. Jbl Srvksprnjmi zeaklm kdx Euzsteuvfbdeyhye-Qfnshshqupry ixbxljrd zojjiapl azf 495 Ssgfhgrixf (ty) Aapnft fbv myg 98 mf Kgmviyewjytjvpfpbt mu lbx Wzcdto xysqruayo.
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