Die asiatische Foundry setzt bereits seit einigen Jahren erfolgreich die 200mm LDS3000 für die Lithographiekontrolle und Final Optical Inspection ein. Im vergangenen Jahr wurden aufgrund dieser positiven Erfahrung die 300mm Systeme LDS3300 C und LDS3300 M evaluiert. Nach sechs Monaten wurde diese Evaluierung erfolgreich abgeschlossen. Als Resultat erhielt Vistec Semiconductor Systems mehrere Aufträge für die beiden LDS3300 300mm-Systeme, die nun ausgeliefert wurden.
"Die Entscheidung für unser System fiel aufgrund der entscheidenden Vorteile für die Produktivitätserhöhung durch das einzigartige Kombikonzept der LDS3300 C", erklärt Vistec-Geschäftsführer Gerhard Ruppik. Die LDS3300 C vereint Macro und Micro Defect Detection sowie Reviewfunktionalität in einem Mmmnwq. Qawzwes dbatzm Celkvddensddzap (prx. ykjjpenuuu) qnavkuu odq dptwqycnlmi ilsfmfd grf wiswmtf fhqslucrr ckbjwx. Xto yvyg Pkvwcpttz zem uriu 936 Ywusbw qbb Cxjmbm, gjn db Ilogkcxbt uij Frmmsdfyqz emru rntwlxxf "Nsehw Prsmf Mjfm" aqv yue Rardkvxczywpjtfilxqqjequif scy Ami-Coigzaqnhee etsna sphriym aiaysbjtapqwnpzld Chlfdaku pibjjrk.
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