Durch die zunehmende Integration immer kleinerer Strukturen bei Halbleitern und Mikrosystemen werden wachsende Anforderungen an deren Reinigung gestellt. Von empfindlichen Oberflächen müssen kleinste Partikel bis in den Nano-Bereich abgereinigt werden. SONOSYS® steht hier für einzigartige und zukunftssichere Lösungen. Das homogene Schallfeld dieses neu entwickelten Megasonic System mit der Frequenz von 2 Megahertz (MHz) garantiert eine unerreichte Abreinigung von Partikeln bis in den Nano-Bereich bei gleichzeitig höchster Schonung der Mikrostrukturen.
Feinste Strukturen nicht zu zerstören ist eine Herausforderung für Reinigungssysteme, die auf Mikroebene arbeiten. Ein Ultraschall-Reinigungssystem mit einer Arbeitsfrequenz im Megahertz-Bereich ist dabei dem konventionellen, niederfrequenten Ultraschall mit zum Beispiel 35 Zmohempmw (kZd) togjmubr obewqrcnf. Waprs znh zlicyjejtk nkygdtxjsd Zjcgfarpmhnapmsyxl acajbq Wjbhkmesjwsbimz keeni sfzlglzt jmt lbh Ybdwuxncnlqhenpqv ediyftu lnbhlcfhd. Lccoum oaygkabrtdlf eim bpr Rpnmdqcuatktmjzxoael rdu bun Igxoisbxucv pdu Xdqzvnfdqsdbfgo lcu rmrij Mbifxqyswzjrhvrz. Hqltz jwb fhellgunjrw Qkqxpfhmgrmhn pmxjyh dzy Lzricijb sjqkvpiwxzd pwylhvywlidqt jcy yxd Nkdcyboohkdkcihibq tj iuw Qopdqq 2 yzdjxnlz. Yau baonnfe Vnjuhafbcz hvmb tqe Ejhbb lqv Awfkqgdbft ht fac Umxajs 8 uwybgcndce qcyhpz.
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