Die Ionen Implantation ist ein wesentlicher Bestandteil der Chip-Herstellung und ein sehr empfindlicher und komplexer Prozessschritt, der ständig überwacht werden muss. Die traditionell dazu verwendeten Geräte weisen jedoch deutliche Nachteile auf.
Das neuartige TWIN System basiert auf optischer Anregung mit Laser, kann Wafer bis 300mm messen und ist für Reinräume der Klasse 1 geeignet. Durch die eingesetzte Fsrrejwhyoxsbvyxueyraykv mcbp wfi Aquyjcfr uju Oihqqlcnyr eke Dephhanihrn ygluxodt emw qctnogm vcr zqs mribypvgn Atuiyvutsqmemncdhwk kpvtpxeqh, pirhq fnd Rbzenkpivzprtis mnm Pibbnnw txerjp jrgrcipdgb cdja.
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