Neues Metrologiesystem zur Überwachung von Implant Prozessen bei weiterem Key Account Kunden erfolgreich

(PresseBox) ( Feldkirchen/Jena, )
Das neukonzipierte Metrologiesystem TWIN SC4 des Geschäftsbereichs Plasma Systeme setzt sich im Halbleitermarkt durch. Sony hat inzwischen drei Geräte im Einsatz; mit Toshiba hat sich ein weiterer Weltkonzern in der Chip-Herstellung für das innovative TWIN System zur Prozessüberwachung bei Ionen Implantationen entschieden.

Die Ionen Implantation ist ein wesentlicher Bestandteil der Chip-Herstellung und ein sehr empfindlicher und komplexer Prozessschritt, der ständig überwacht werden muss. Die traditionell dazu verwendeten Geräte weisen jedoch deutliche Nachteile auf.

Das neuartige TWIN System basiert auf optischer Anregung mit Laser, kann Wafer bis 300mm messen und ist für Reinräume der Klasse 1 geeignet. Durch die eingesetzte Doppelmodulationstechnik wird die Frequenz und Intensität des Laserlichts variiert und optimal auf das jeweilige Implantationsrezept angepasst, womit die Empfindlichkeit der Messung weiter gesteigert wird.

Das benutzerfreundliche TWIN System bietet Datenausgabe als 3D-Grafiken für Gleichmäßigkeit, tägliche und wöchentliche Überwa-chungskurven sowie Dosis-Korrelation mit polynomischer Kurvenangleichung der höheren Ordnung. Die vollautomatische Beladung, ein Bilderkennungsmodul für die Messung auf Produktwafern, Leser für Los- und Wafernummern sowie ein Kommunikationspaket für Hostrechner des SECS GEM 300 Standards sind optional verfügbar.
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