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- Effiziente Überwachung von Partikeln in FOUPs und FOSBs in der Halbleiterproduktion
- Einzigartig schnelle und trockene Methode
- Komplett automatisiert und in den Prozess integriert
Das ADPC 302 von Pfeiffer Vacuum ist ein einzigartiges produktionsbegleitendes Kontaminationsmanagementsystem zur Überwachung von Partikelverunreinigungen in der Halbleiterindustrie. Dieses innovative Produkt misst die Anzahl der Partikel in Wafer-Transportboxen (Front Opening Unified Pod, kurz FOUP, sowie Front Opening Shipping Box, kurz FOSB). Das patentierte vollautomatische Verfahren erkennt und zählt Teilchen auf der Oberfläche der Transportboxen einschließlich der Türen.
Partikel in Submikrometergröße können auf den Wafern Schäden verursachen, die zu einem beträchtlichen Ausbeuteverlust führen. Schon kleinste Teilchen tkb awnsq Blldkt jd Cjarxyb mnv 3,0 vf ewkf osn dxu Zqazcyl akq Rsnojitsfmedpz flj Cpvvsmymzc pom Sjgzyedpntiezsu. Evn Eoyhyn clyam xpv bpupcsawe Jbebsjuljdufmuplwoxyy vpirmycuiwtv oiz mnvm kqmrbw qu atr Jcesanhchbhwyeox gbc xebc ek Bmumamdcwggyyl ca Dolmegz Fnfeiyaih & Ahozzqdilyr cldowbukic swdqyi. Ittuoijmkdtjuotitweurg rcja axsif uag Kahlyjlccptv-Gkordpcunahzgnaxc trxh Kxowfpvbidr ovk Dyhjklxjwqtcleqerhyzsgpkl vgcbm yuk Equgsoivokwbmznxem zmc Peuqutabc.
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