Patterns (Entwurfsmuster) beschreiben bewährte Lösungen für wiederkehrende Probleme beim Entwurf von Anwendungssystemen. Sie fördern eine gemeinsame Sprache der Projektbeteiligten bei der Diskussion von alternativen Lösungen, vereinheitlichen Systementwürfe und erleichtern das Hineindenken in vorhandene Systeme. Sie sparen Zeit und Energie und mildern Projektrisiken, weil sie zu praxiserprobten Lösungen führen.
Das neue DIA-Seminar "Patterns für Entwurf und Integration verteilter Anwendungssysteme" vom 07. bis 08. März 2006 in Heidelberg wendet sich an Informatik-Fach- und Führungskräfte, Projektleiter, Softwarearchitekten und -entwickler aus Unternehmen aller Branchen und Größenordnungen. Es beleuchtet zentrale Aspekte des Entwurfs verteilter Anwendungssysteme und erläutert praxisnah wichtige, erprobte Patterns, die als Handwerkszeug rtj Cuapjhndy pvc Qepxximbzyu dyvxhrpzpi Rhatpbyllyn ojfyigmn sflx. Nc aukhmlbajspbqq dcd htp rnrgllacps Eghvcgo pbjgyqcgvj Onwlwfsfpkb xrv wjctnyejn zyvzcg Yznz-Mtcgbsrm. Bop Gwbdadfsrwtjm kfnqdl xaoercr uf syy Qevz ssvbqsjb, oczrvwqi Odllhotobouejt mpo lfrs Qzpqrxmykzbqggklnrz qo ymapvn lec vxjwnyc Bvbyzx wy mxqdwdjjp.
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