Sse Gmbh has launched the second generation of the succsefull optiwet st 30 wet processing system

(PresseBox) ( Singen, )
With the second generation of the wet processing System OPTIwet ST 30, SSE GmbH is continuing the successful system platform for Single Substrate Wet Processing.

SSE has integrated several improvements into the well engineered first generation of the OPTIwet ST 30 to offer additional advantages for advanced and safe wet processing.

The OPTIwet ST 30 Wet Processing System is designed for single substrate wet process applications, like:

- cleaning,
- developing,
- etching,
- resist stripping
- lift off.

The improved process chamber with interlocked door provides excellent process results, cleanliness and repeatability for Wafers up to Ø 12" ( 300 mm) and substrates up to 12"x 12"(300mm x 300 mm) and Ø 15,7" (400 mm)
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