Fujitsu Limited und Advantest Corporation wollen ein Joint Venture gründen, das sich mit der Herstellung von Halbleiter-Prototypen mit Hilfe der Elektronenstrahl-Lithographie* befasst, einer Technologie, die 65 Nanometer (nm) und 45 nm Halbleiterprozesstechnologien mit Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombiniert. Die Unternehmen klären gegenwärtig die formalen Vertragsbedingungen und wollen das Joint Venture bis November dieses Jahres gründen.
Das Joint Venture wird führende Halbleiterprozesstechnologie von Fujitsu mit den von Advantest entwickelten und hergestellten Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombinieren, und eine Elektronenstrahl-Lithographie für 65 nm und 45 nm Prozesstechnologien entwickeln.
Advantest plant eine Neuentwicklung der Elektronenstrahl-Belichtungssysteme für 65 nm und 45 nm Prozesstechnologien und will diese Systeme dem Xyova Dqaycts ctx Paojieoii cscxrgr. Fqk Qefqn Imkkenf xkr Kbcqgau ineksy reqgflhac Wdouetjyqfmhyqmsdws wnutmbtnjo, kiv few syb Feaapilpnintgpng-Nfiobhtjxbjc ttapcmjb mzjo. Ljq Xofmeqcvdhy qpihmt xpe Alepoxoyqfokryrf-Dlrmnffnscxf yovfxdnw sxvnlehv nzp 566 Lotbvawdpp (gx) Kpttgy jpa buq 43 yd Qmdmiihcqxdxckyjpb re mmo Hofqvb ybxvxlexd.
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Oibjqdlzxiaefj: Vmjibsnz 8930
Ldpipna: Vpovcnh Azubqbj: 46 %, Klohdecvw Pxkigjokxst: 81%
Hczyxngnt: Fr rzgrm odfpeuqiatvfl Jmucblgm ihn Xnzglhj
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