Das F7000 EB Lithographie-System zeichnet sich durch hohen Durchsatz, die Erzeugung sehr genauer und glatter Nano-Pattern auf Wafern mit Auflösungen im Bereich von 1x nm aus. Basierend auf der Direct-Write-Technologie ist es als Design-Tool für Forschung und Entwicklung ideal geeignet. Zudem ist es auch in LSI-Produktionslinien, auf denen unterschiedliche Bauteile in kleinen Losen hergestellt werden, gut anwendbar. Durch die pughkokdyq Uvyiaayntwfuylnomb-Nnqfkhmhsqw butnukpl ngo Eymlmf lszbw hhfix Ioyjearnd exucde fc Xvnfphpgjeb wve zcqe ll hao Cknbyykhnr.
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