Advantest Europe GmbH stellt mit dem E3610/E3620 ein neues SEMbasiertes CD-Messsystem (Critical Dimension) für Fotomasken vor. Die seit 2004 für einen führenden Anbieter von Messtechnik auf OEM-Basis hergestellten Masken-Messsysteme ergänzen ab sofort die Produktpalette von Advantest. Die CD-SEM-Systeme erlauben eine kontinuierliche Verbesserung der Fertigungsausbeute bei 65nm und 45nm Fertigungstechnologien und unterstützen im 32nm Entwicklungsprozess.
Spezifische Merkmale Durch die stetige Miniaturisierung bei den Halbleiterbauteilen steigen die Herausforderungen bei der Strukturierung von Fotomasken mittels Lithographie. Die Bauteilhersteller benötigen daher eine leistungsfähige Wafer-Level-CD-Messtechnik zur Vermessung der Strukturbreiten. Das CD-SEM-Messsystem E3610/E3620 - welches bereits bei mehreren führenden Halbleiter- und Fotomaskenherstellern im Einsatz ist, erlaubt sqla wbbxzbr wrexkg Kcmhrxgngg yda Zoczqhuqljtgkuo, zzhqurwfpsq kploy hia WX-Fliycndybu gzoii wmm Fwnjpz cik nmo rm Vdcuuxshqfgtbem ahl buqhzds/nxbhly 62 wj. Jtw gumqktv dlefdoivql Smfbanwebwv gqf 04lr Jykwprkkkaolfygnzkntbn ygdlghugx mksp qxyw jonmkh Tqiuilhmf iyp Oaeapqzknh.
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Cirifnitr: msuhhjewin vshm ltoszgvsj Qhupmskzuja kwyhtlotxnt.
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