Besonderes Highlight sind die Multi-Vision CD-SEM-Messtechnik und das E-Beam-Lithographie System. Das Advantest E-Beam-Lithographie-Tool bietet eine hervorragende Auflösung und Genauigkeit bei hoher Schreibgeschwindigkeit, während sich das CD-SEM-System durch eine deutlich verbesserte Messgenauigkeit und höheren Durchsatz auszeichnet. Erstmals werden auch die neuen Advantest Terahertz-Systeme zur zerstörungsfreien Bestimmung der Chip-Gehäusedicke und time-domain reflectometry vorgestellt. Sie ermöglichen eine höhere Produktivität in der Halbleiter-Produktion.
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